某半导体材料加工制造企业因晶圆的清洗多种工序会产生含氨废水补救，需水量200吨/天。废水补救中除高锰酸盐指数外还含带氟化物和微量分析血本属，补救高难度大。本县废气鑫霖环保单位需求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水组成及來源 晶圆清理废污水（主要是从何而来）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺程序工业废水：含进样器铜、镍等高价属，pH值震荡大 CMP研磨机生产废水：含硅科粒及氯离子 净化处理施工工艺环节 选用"生物学石雕文化沉淀+膜分離+折点氯化"三人组合施工工艺： 预治疗 ：添加CaCl2除氟，把控好pH在7.5-8. 反渗透膜平台 ：洗去0.01μm之内粉末物 反融合精提 ：将氧化还原电位精提至1000mg/L之内 折点氯化 ：精准抑制氯添加量，将化学需氧量转化率为离氮气 正离子对换 ：维护巨资属符合标准 最中治疗效果 化学需氧量动态平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属成分如果低于检测工具限 水中水回用率达75% 工业废水呈现量缩减40%