某半导体材料IC芯片制造技术厂在晶圆生产加工流程中，选用硅烷实现硅概念生张，烟气干洗塔导致高渗透压含硅废污水。废污水有pH下降大（2-11）、硅分量高的特色，传统式整理的方式易出来硅垢淤塞问題。 化工废水组成及来原 生产废水关键材质为： 充分均匀溶解性硅酸盐 ：SiO₂有机废气浓度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢腐蚀钠 ：洗衣机清洗塔腐蚀性洗衣机清洗液农药残留 顆粒硅 ：納米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：辅料杂物融入 正确处理工艺步奏步奏 科学创新选取"多级中合+膜过滤清洁+化掉晶体"艺： 一級采和 ：用CaO调结pH至4-5，形成硅酸钙积累，硅清理率60%。 五级采和 ：加Na₂CO₃将pH上升至9，进两步水解剩的硅，串并联用镁剂除砷。 反渗透装置系统化 ：0.02μm卫浴陶瓷膜进行过滤奈米级硅科粒，通量保持稳定在80LMH。 MVR蒸馏器 ：高浓高盐废水处理工艺，析出出Na₂SO₄副產品，水回收率超90%。 决定性作用 总硅从1500mg/L低于5mg/L下面 砷含量的从0.8mg/L降落到0.01mg/L 操作系统无积垢运作多于2年 今年回收利用硝酸钠钠结晶体约800吨