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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

活动大环境 该半导体技术生产制造制造小区建在华北沿海地区,总投资人不不高于2005亿,主要生产制造12寸大晶圆和发达芯片封装好产品。小区日释放口物废用水量约5000吨,含有几种施工工艺化工污水,处里分值大。该项目必须化工污水处里后做到《电子技术化工水感染物释放口物标准规定》(GB 39731-2020)尤其释放口物卫生防护距离,那部分工业废水处理率不不高于60%。 废气有效成分及的来源 含氟废水处理:核心来晶圆蚀刻、的洗涤繁琐流程,氟铁离子溶度高达mg200-500mg/L,pH值浮动大 生物碳电镀废水:光刻、成像、去胶等程序有,COD盐浓度300-800mg/L,所含异丙醇、甲苯等生物碳稀释剂 含铜废水处理工艺:电镀锌、化学上的机械化抛光处理(CMP)制作工艺所产生,铜阴阳离子氨水浓度50-150mg/L 碱酸电镀废水:装备除垢、有机废气洗滌等环节发生,pH值在2-12中振幅 精磨污废水 :CMP制作工艺产生,具有纳米技术级二氧化的硅颗粒肥料 治理技术标准流程 使用"几大类征集+分质办理+深浅净化工程"的搭配工艺流程: 含氟废污水整理线 : 有级化学反应沉定物:先加药系统氯化钙缓解pH至6-7,后加入PAC和PAM斜板沉定池沉定物 活性酶类钝化铝吸附物:提高认识氟铝离子渗透压减少为5mg/L一下 废水经板框压滤后委托人专业化治理 可挥发污废水 整理线 : 微电解法抛光预工作:铁碳微电解法抛光光降解大碳原子充分物 UASB好氧菌不良物反应器:HRT=24h,COD除去率>60% MBR膜生物技术化学反应釜:利用PVDF空芯仟维膜,通量15LMH 含铜化工废水操作线 : 耐腐蚀乳浊液:添加NaOH可以调节pH至9-10,行成Cu(OH)2乳浊液 正阴离子置换:多级树脂材料置换确保安全生产铜正阴离子<0.3mg/L 钛电极设备收购 :组成部分焦化废水经钛电极设备收购 铝合金铜 终合治疗机系统 : 调控池:均匀水质检测储水量,设水解酸化池绞拌 水泥混凝土奠定:添加混合水解酸化池剂除去电解质溶液物资 O3催化防氧化防氧化:化学吸附难化学吸附无机物 反侵入系統:脱盐率>98%,产水回收于生育线 污水除理系统软件 : 废水萃取池:物质溶液浓度从1%提高至3% 离心分离脱水情况:填加PAM调养,泥饼含水分率<75% 底温干化:这部分工业废水干化至含水量率30%左右 最后目的 创业项目成立 程序运行后,每一项公式维持细则:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。循环水饮用水量质满足GB/T 19923-2005重工业用水量细则,循环率65%,几乎每年省下新颖水容量约130万吨。废水产生了量极大减少40%,安全隐患废料处里投入减少35%。操作系统自主化的程度高,线上探测的数据与环境保护机构公交实时连接网络。

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